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国产光刻机“物镜体系”迈出重要一步

时间: 2024-02-25 08:01:13 |   作者: 影像测量仪

  “芯片是克勤克俭的,不是神造的”,已然国外能够造出光刻机,我国凭什么不能够?

  美国制止芯片出产企业向华为供给芯片,以此遏止华为的展开。而芯片的出产要芯片光刻机,只需我国自己能制作光刻机,就能够脱节对国外芯片的依靠。那么美国的禁令便是一句废话,华为以及很多的我国企业也会意气昂扬,再造光辉。

  当时,世界上最先进的光刻机制作商在荷兰,阿斯麦尔(ASML)厂商曾针对此事很自傲地说过:“我国不或许自己造出尖端的光刻机”。乃至高傲地表明,就算给我国图纸,我国也不或许造出光刻机来。但荷兰人不知道我国人的斗争之心有多强,所以后来又改口说:“但不是永久。”

  其实并不悠远。自从芯片被禁,我国就开端了对光刻机的研制磨炼。国人信任“芯片是克勤克俭的,不是神造的”,已然国外能够造出光刻机,我国凭什么不能够?俯瞰短时间内不能敏捷构成独立的技能,但很明显,这条路是存在的,能够拓荒打通的。

  据3月7日媒体传来的音讯,北京国望光学科技有限公司发布了重要的公告,其投影光刻机曝光光学体系研制及批量出产基地项目,现已有三家提名人中标。这三家提名人分别为四川智能技能股份有限公司、北京世源希达工程技能有限公司和广东冠华机电工程有限公司。据泄漏,这三家企业首要担任的是曝光光学体系该项意图制作商洁净工程。

  国望光学发挥的效果,是光刻机的物镜体系供货商,这在光刻机出产链上是重要的一环。这一次展开的曝光光学体系研制及建设项目投产,含义严重。

  在这一项目上,国望光学从老练工艺到先进工艺完结了掩盖,完结350/280纳米节点到28纳米工艺节点及以下的光刻机曝光光学体系产品IDM形式才能,集规划与研制于一体,具有出产制作和交货的实力。

  一般人或许不明白打破28纳米芯片有什么严重含义,究竟国外芯片现已到了7纳米、5纳米的程度。现在,国产芯片现已能够在必定程度上完结14纳米的出产的根本工艺,这便是有和没有的差异,意味着从0迈向了1的严重打破。当我国具有了这项技能,就能够向深层推进了。

  这也等于说,国望光学达到了光刻机四大技能之一的物镜体系。一部尖端的光刻机由10万多个零件组成,而最重要的四大技能部件则是要害的要害,即光学体系、物镜体系、双工件台和操控软件。

  除了上面说的物镜体系,其他两大技能部件也有国内厂商完结了打破。例如,双工件台有华卓精科来完结,光学体系由科艺虹源来完结。而操控软件一项,还在等待有国内厂商能完结接力。

  一部完好的光刻机,需求很多的厂商团体来完结。现在,俯瞰间隔完好的光刻机还有一段间隔,但随着一次一次的技能打破,最终会完结国产光刻机的成型。


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