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打破国外独占长春光机所15米扫描干与场曝光体系检验了

时间: 2024-02-22 05:27:08 |   作者: 影像测量仪

  2020年8月24-25日,国家自然科学基金委员会信息学部在长春安排专家对国家自然科学基金国家严重科研仪器设备研发专项“1.5米扫描干与场曝光体系”进行了项目检验。

  专项研发的仪器设备包含一台1.5米扫描干与场曝光体系及四台制造全息光栅所需的辅佐工艺设备。

  该项目首要面向高能拍瓦激光输出技能、激光惯性束缚核聚变研讨及高端光刻机工业等战略高科技范畴对大面积全息光栅的火急需求,研发了1.5米扫描干与场曝光体系,其方针是具有以步进扫描多线mm全息光栅的才能。经过7年的攻关,项目组经过处理和打破长程重载工作台超精细定位、曝光干与场超精细丈量及相位确定等十几项根底问题和关键技能,研发出了具有制造最大面积650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅才能的扫描干与场曝光体系。

  该项意图顺畅实施与检验,标志着我国具有了独立制造米级单体无拼缝全息光栅的才能,打破了由国外长时间独占的局势,对高能激光、可控核聚变、高端光刻等范畴的技能与工业推动具有严重的战略意义。

  关键字:扫描干与引证地址:打破国外独占,长春光机所1.5米扫描干与场曝光体系检验了

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